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日立分析儀器Lab-x5000采用能量色散X射線熒光光譜法用于分析紙張或塑料等薄膜上硅附著量。

名稱:紙上涂硅分析儀
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測定元素

Si (用戶提供標準樣品,日立工程師幫助用戶在機器上建立校準曲線)

測量單位

g/m2

預設校準曲線范圍(根據標樣)

0.3~1.6 g/m2

樣品狀態      

紙張,薄膜

分析時間

用戶可自定義分析時間,典型分析時間是10-300秒。分析結果動態顯示功能

X射線激發

激發電壓30kV750uA,最大功率3瓦,PdX射線管

X射線檢測

高分辨率硅漂移檢測器SDD,分辨率優于160eV,可實現多元素檢測,無需濾光片即可分開相近元素

主要硬件特點

-不需要氦氣

-空氣壓力自動校正機構

-樣品溫度自動校正機構

數據處理系統

集成式多通道能量分析器和數據處理系統

分析軟件      

應用于日常分析、再標準化校正、定性分析、定量分析、以及全部的X射線校正模式;日常維護和再標準化校正自動提醒功能

多項自動校正功能:實驗室空氣壓力校正

數據顯示和存儲

7英寸工業觸屏集成電腦,分辨率480 (H) x 800 (V) ;3個標準USB接口,可實現U盤數據傳輸;主機內存可儲存十萬個測試數據及譜圖信息

電源要求      

100 – 240 V, 47 /   63 Hz

外形尺寸和重量

長寬高:440X520X155mm,重量16Kg

儀器使用條件

實驗室環境溫度:10 35,濕度小于80%,無冷凝水環境

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